伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):

* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

結(jié)果表明:

偏壓顯著影響直流磁控沉積的 MoN 薄膜的晶相結(jié)構(gòu)、表面形貌、斷面結(jié)構(gòu)、硬度和摩擦磨損性能;隨脈沖偏壓的增大, MoN 薄膜的膜厚、硬度都先增大后減小, 而薄膜的磨損率卻先減小后增大, 其中 -500 V 脈沖偏壓下沉積的 MoN 薄膜具有最高硬度為 7731 N/mm~2, 以及最低的磨損率為 5.8×10~(-7)mm~3/(N·m).  此外, MoN 薄膜在不同載荷和轉(zhuǎn)速的摩擦條件下表現(xiàn)出不同的摩擦學行為.
 

KRI 離子源的獨特功能實現(xiàn)了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無法實現(xiàn)的.

因此, 該研究項目才采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵,  檢漏儀,  質(zhì)譜儀,  真空計,  美國 KRI 考夫曼離子源,  美國HVA 真空閥門,  美國 inTEST 高低溫沖擊測試機,  美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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