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供應 高純鎢靶 高純鎢鈦靶
用途：高純鎢靶和高純鎢鈦合金靶、鎢硅復合靶材通常被施以磁控濺射的方式制作各種復雜和高性能的薄膜材料。由于高純鎢或超純鎢（
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2021-08-02 |
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釕靶 釕濺射靶材 釕整空間上靶
釕靶主要用于真空鍍膜領域純度：99.95%用途：真空鍍膜，實驗或研究級別用釕靶材，電子，光電，軍用，裝飾鍍，功能薄膜等規格01多
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2021-08-02 |
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鎢錸靶材 鎢錸CT球管靶
產品說明鎢錸配比：WRe3%,WRe5%,WRe10%, WRe25%,WRe26%尺寸范圍：厚（0.2-20）×寬（≯500）×長（≯1000）我司采用固液法混料提
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2021-08-02 |
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高純鈦靶定制 歐泰供應鈦濺射靶材
用途：高純鈦靶主要用于大規模集成電路制造，LCD用靶，裝飾鍍膜等。技術參數：純度：4N-5N尺寸：直徑50～400mm，厚度3～28mm可根
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2021-08-02 |
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歐泰供應各種金屬濺射靶材 鉭靶 鉭圓靶
鉭，金屬元素，主要存在于鉭鐵礦中，同鈮共生。鉭的質地十分堅硬，硬度可以達到6-6.5。它的熔點高達2996℃，僅次于鎢和錸，位居
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2021-08-02 |
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歐泰供應各種金屬濺射靶材 銥靶 銥濺射靶材
名稱：銥CAS：7439-88-5符號：Ir導熱性：147W/(m·K)原子量：192.22密 度：22.56g/cm3純度：3N5電阻率：47.1 nΩ·m (at 20 °C)
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2021-08-02 |
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