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更新日期2020-09-07 15:19
品牌: |
未填 |
所在地: |
廣東 深圳市 |
起訂: |
未填 |
供貨總量: |
未填 |
有效期至: |
長期有效 |
上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源, 離子束可聚焦, 平行, 散射.
離子束流: >600 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000.
采用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長, 更適合時間長的工藝要求. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求.
離子源采用模塊化設計, 方便清潔/ 保養/ 維修/ 安裝.
非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕工藝.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 140 技術參數:
型號 |
RFICP 140 |
Discharge |
RFICP 射頻 |
離子束流 |
>600 mA |
離子動能 |
100-1200 V |
柵極直徑 |
14 cm Φ |
離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
流量 |
5-30 sccm |
通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 |
< 0.5m Torr |
長度 |
24.6 cm |
直徑 |
24.6 cm |
中和器 |
LFN 2000 |
伯東KRI 考夫曼離子源 RFICP 140 應用領域:
1.預清洗
2.表面改性
3.輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD,
4.濺鍍和蒸發鍍膜 PC
5.離子濺射沉積和多層結構 IBSD
6.離子蝕刻 IBE
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