Clevios F ET

即用型涂料配方，在濕膜厚度為12微米時，SR值低于200歐姆/平方。

Clevios F DX2/ Clevios XL

新型雙組分涂料配方，具有更好的硬度和耐溶劑性。

CLevios Etch和 CLevios Set S3

用于涂層線路圖案的輔助材料。CLevios Etch是一種水溶性粉末，CLevios Set S3是一種可印刷掩模（絲網(wǎng)印刷）。

賀利氏開發(fā)的一種特殊技術(shù)，通過濕法工藝對Clevios線路圖案進行處理。生成的線路肉眼幾乎看不見，因此不需要額外的步驟遮蓋，從而降低了成本。掩膜可以通過經(jīng)濟的絲網(wǎng)印刷、凹板印刷或柔性印刷工藝來完成，或者通過光刻膠來實現(xiàn)更精細的結(jié)構(gòu)。生產(chǎn)過程中，可以通過CCD進行光學檢測，這種特殊分析檢測方式很容易實現(xiàn)。賀利氏可提供技術(shù)支持服務。

應用領(lǐng)域眾多：顯示器、照明、觸控傳感器、車載器件、有機太陽能電池、高分子電容器、抗靜電涂層、印刷電子。

抗靜電壓敏膠：CLevios P SB6

太陽能光伏電池：Clevios HTL Solar，Clevios F HC Solar

絲網(wǎng)印刷：Clevios SV3，SV3 stab，SV4，SV4 stab

傳感器、柔性電子：Clevios ph1000

OLED空穴傳輸層：Clevios PVP AI 4083

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