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UV光氧廢氣處理設(shè)備在工業(yè)企業(yè)的生產(chǎn)實踐中可以作為一種很好的選擇。而選擇這樣的設(shè)備，可以達到提高廢棄物處理效果的良好目標，處理各種廢棄物的利用可能性，也是提高工業(yè)生產(chǎn)和處理設(shè)備產(chǎn)品功能和應用效果的良好選擇。而這種新技術(shù)設(shè)備，既能滿足實際應用的目的，又能在處理廢氣時達到環(huán)保標準，達到使用效果，自然環(huán)保標準，有專業(yè)依據(jù)。

1. 光氧基催化除臭設(shè)備能有效降解有機化學品:能有效去除揮發(fā)性有機化合物(VOC)、無機物、硫化氫、氨、硫醇等主要污染物，以及各種異味。除臭效率可達99.9%以上，大大超過1993年頒布的《惡臭污染物排放標準》(gb14554-93)。

2. 不需要添加任何物質(zhì):只需要相應的排氣管和排氣管功率使氣體通過設(shè)備進行脫臭、分解和凈化，不需要添加任何物質(zhì)參與化學反應。

3.適應性強:可適應高濃度、大氣量、不同有機化學物質(zhì)的凈化處理，可連續(xù)24小時工作，運行穩(wěn)定可靠。低運營成本:本設(shè)備沒有機械作用,沒有噪音,不需要特殊的管理和日常維護,只需要做定期檢查,設(shè)備能耗低(每處理1000立方米/小時,只有0.1度電),設(shè)備的風的阻力非常低< 30 pa,可以節(jié)省大量排氣動力能源消耗。

均相光催化降解是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質(zhì)，通過光助 - 芬頓反應產(chǎn)生羥基自由基使污染物得到降解。紫外光線可以提高氧化反應的效果，是一種有效的催化劑。紫外/臭氧(UV/03)組合是通過加速臭氧分解速率，提高羥基自由基的生成速度，并促使有機物形成大量活化分子，來提高難降解有機污染物的處理效率。

非均相光催化降解是利用光照射某些具有能帶結(jié)構(gòu)的半導體光催化劑如TiO2、ZnO、CdS、WO3、SrTiO3、Fe2O3等，可誘發(fā)產(chǎn)生羥基自由基。在水溶液中，水分子在半導體光催化劑的作用下，產(chǎn)生氧化能力極強的羥基自由基，可以氧化分解各種有機物。把這項技術(shù)應用于POPs的處理，可以取得良好的效果，但是并不是所有的半導體材料都可以用作這項技術(shù)的催化劑，比如CdS是一種高活性的半導體光催化劑，但是它容易發(fā)生光陽極腐蝕，在實際處理技術(shù)中不太實用。而TiO2可使用的波長可達387.5nm，價格便宜，多數(shù)條件下不溶解，耐光，無毒性，因此TiO2得到了廣泛的應用。